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Product CategoryNikalyte NL-UHV磁控濺射儀能夠在超真空中生成和沉積納米顆粒,以在樣品上創建功能化表面。 可以通過精確控制納米顆粒的尺寸、組成和結構來定制納米顆粒涂層的特性,從而實現定制化特性。
Nikalyte NL-UHV超高真空納米顆粒沉積源允許將超純納米顆粒直接沉積在各種基底和材料上。可以調整膜的密度,并且涂層能夠很好地附著在樣品表面。 NL-UHV有多種配置可供選擇,包括單個1英寸和2英寸源,以及三重1英寸源NL-DX3,后者允許單獨或作為合金沉積多達三種材料。
NL-QMS磁控濺射納米顆粒尺寸控制系統能夠實時監測納米顆粒的尺寸分布,通過質量過濾器按質量或直徑實時掃描或過濾沉積的納米顆粒,從而促進生長條件的優化。
Nikalyte NEXUS物理氣相沉積系統是一款超多功能的PVD(物理氣相沉積)系統,能夠生成納米顆粒和薄膜,非常適合工業和學術研究。NL-FLEX可以容納各種類型的基底,包括卷對卷、非平面和粉末涂層。它適用于廣泛的應用領域,包括催化、光子學、能量存儲、傳感器和生命科學。這種模塊化的PVD沉積系統可以與分析工具集成,為您提供定制化的研究解決方案。
Nikalyte NL-FLEX物理氣相沉積系統是一款超多功能的PVD(物理氣相沉積)系統,能夠生成納米顆粒和薄膜,非常適合工業和學術研究。NL-FLEX可以容納各種類型的基底,包括卷對卷、非平面和粉末涂層。它適用于廣泛的應用領域,包括催化、光子學、能量存儲、傳感器和生命科學。這種模塊化的PVD沉積系統可以與分析工具集成,為您提供定制化的研究解決方案。
Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統是一個緊湊且靈活的PVD(物理氣相沉積)系統,具備薄膜、納米顆粒和合金沉積能力。該系統有兩種型號:375型(最多可容納五個源,基底直徑可達四英寸)和300型(最多可容納四個源,基底直徑可達兩英寸)。由于其體積相對較小,真空腔體的抽真空速度較快,周轉時間約為30分鐘。
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